한국정보통신학회 논문지 (Journal of the Korea Institute of Information and Communication Engineering)
Current Result Document :
| 한글제목(Korean Title) |
GaAs 웨이퍼의 대역단 영상에 대한 정량적 해석 |
| 영문제목(English Title) |
Quantitative Analysis on Near Band Edge Images in GaAs Wafer |
| 저자(Author) |
강성준
나철훈
Seong-jun Kang
Cheolhun Na
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| 원문수록처(Citation) |
VOL 21 NO. 05 PP. 0861 ~ 0868 (2017. 05) |
한글내용
(Korean Abstract) |
도핑 되지 않은 반 절연 LEC GaAs내의 EL2와 얕은 준위 분포를 영상화하기 위해 대역단 적외선 영상 기법을 활용했다. 대역단 적외선 투사 매핑에 근거한 본 기법은 분석 속도가 빠르고 비파괴적인 방법이다. EL2 흡수 영상이 콘트라스트 반전되는 대역단 부근에 대한 정량적인 해석은 아직 보고되지 않고 있다. 본 논문은 대역단 부근에서 영상의 특정 부분(cell, wall)에 대한 포토퀀칭 메커니즘의 스펙트럼-, 공간- 및 온도- 종속성을 논하고 있다. 결함 부분별(EL2w, EL2b)로 포토퀀칭 개시점이 다른 것은 불순물 종류의 차이로 인한 서로 다른 전기적 작용에 기인한 것으로 해석할 수 있다. 전위(dislocation) 밀도가 높은 곳에서는 EL2b 밀도는 약간 적은 반면 EL2w 밀도는 보다 많다는 것을 정량적 해석으로부터 확인 했다.
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영문내용
(English Abstract) |
Near band infrared imaging technique has adopted for imaging EL2 and shallow level distributions in undoped semi-insulating LEC GaAs. This technique, which relies on the mapping of near bandgap infrared transmission, is both rapid and non-destructive. Until now no quantitative analysis has been reported for near band edge region which gives the reverse contrast on EL2 absorption images. This paper presents the spectral, spatial and temperature dependence of photoquenching forward and inverse mechanism in the band edge domain for cells and walls and for direct and inverted contrast conditions during transitory regimes. The difference in the threshold for the EL2w and EL2b defects could be attributed to the contribution of a different electrical assistance due to a different species of impurities. Quantitative analysis results show an increased density of EL2w and a small reduction of EL2b in the region of the walls where there is a high density of dislocations.
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| 키워드(Keyword) |
대역단
스펙트럼 영상화
반 절연 GaAs 웨이퍼
콘트라스트 반전
Defect concentration
Spectral imaging
LEC grown SI GaAs
Near band edge
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